Тонкие Пленки. Взаимная Диффузия и Реакции

Автор(ы)

Поут Дж, Ту К, Мейер Дж. (ред.)

Год

1982

Язык

rus

Теги

Металлургия физика Химия Электроника

Аннотация

Тонкие Пленки. Взаимная Диффузия и Реакции Год издания : 1982 Автор : Поут Дж., Ту К., Мейер Дж. (ред.). Переводчик : под ред. д-ра физ.-мат. наук В. Ф. Киселева и канд. физ.-мат. наук В. В. Поспелова Жанр или тематика : физика твердого тела Издательство : М.: Мир Язык : Русский Формат : DjVu Качество : Отсканированные страницы + слой распознанного текста Интерактивное оглавление : Нет Количество страниц : 576 Описание : Коллективная монография (США и Нидерланды), посвященная явлениям переноса вещества в тонких пленках и процессам физико-химического взаимодействия металлических, полупроводниковых и диэлектрических пленок. Рассмотрен широкий круг вопросов: проблемы твердотельной микроэлектроники, металлофизика и металлохимия границ раздела, методы получения и исследования тонких пленок, явления на границах зерен, реакции и взаимопроникновения в слоистых структурах, электрические характеристики границ раздела, имплантационная металлургия. Для научных работников (физиков, химиков) и инженеров, занимающихся физикой полупроводников, микроэлектроникой, созданием полупроводниковых приборов, катализом, коррозией. Опубликовано группой Примеры страниц Оглавление Общий обзор. Влияние взаимодействий в тонких пленках на технологию кремниевых приборов. Химия и физика границ раздела твердых тел. Электростатические свойства границ раздела полупроводник-проводник. Методы получения и исследования тонких пленок. Методы определения профилей концентрации. Диффузия по границам зерен. Электродиффузия в тонких пленках. Взаимодиффузия в системах металл-металл. Образование силицидов. Реакции в системе металл-полупроводник. Эпитаксиальный рост из твердой фазы. Влияние поверхностных реакций на электрические характеристики контактов металл-полупроводник. Ионно-имплантированные металлические слои.