Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников
- Автор(ы)
- Луфт Б.Д. (ред.)
- Год
- 1982
- Язык
- rus
- Теги
- Электроника Физика Химия
Аннотация
Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников Год : 1982 Автор : Луфт Б.Д. (ред.) Издательство : Радио и связь Язык : Русский Формат : DjVu Качество : Отсканированные страницы Количество страниц : 134 Описание : Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений А3В5, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений. Примеры страниц
Как сослаться (ГОСТ Р 7.0.5-2008)
- В списке литературы
- Луфт Б.Д. (ред.). Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников. — 1982.
- В тексте
- (Луфт Б.Д. (ред.). Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников. 1982)