Основы конструирования вакуумных плазменных установок

Автор(ы)
Марахтанов М.К, Духопельников Д.В, Воробьев Е.В
Год
2014
Язык
rus
ISBN
978-5-7038-4029-0
Аннотация

Основы конструирования вакуумных плазменных установок Год издания : 2014 Автор : Марахтанов М.К., Духопельников Д.В., Воробьев Е.В. Жанр или тематика : Учебное пособие Издательство : МГТУ им. Н. Э. Баумана ISBN : 978-5-7038-4029-0 Язык : Русский Формат : PDF Качество : Отсканированные страницы + слой распознанного текста Интерактивное оглавление : Нет Количество страниц : 94 Описание : Рассмотрены основные понятия вакуумной техники, а также характеристики вакуумных насосов, необходимые для проектирования и расчета вакуумных плазменных установок. Даны примеры определения параметров потоков газа и плазмы в вакууме. Приведены характеристики ряда промышленных и лабораторных установок, предназначенных для ионно-плазменной обработки изделий. Для студентов старших курсов технических университетов и инженеров, занимающихся разработкой и конструированием вакуумно-плазменных систем. Примеры страниц Оглавление 1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода 1.1. Основное уравнение вакуумной техники 1.2. Дифференциальное уравнение откачки. Расчет длительности форвакуумной откачки с учетом натекания 1.3. Остаточное давление в камере. Потоки натекания. Истинные и кажущиеся течи. Адсорбция и десорбция газов. Расчет длительности высоковакуумной откачки 2. Вакуумные насосы 2.1. Роторно-пластинчатый насос 2.2. Спиральный насос 2.3. Мембранный (диафрагменный) насос 2.4. Насос Рутса 2.5. Диффузионный насос 2.6. Турбомолекулярный насос 2.7. Криогенный насос 3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе 3.1. Поток газа в трубопроводе 3.2. Ионизация газового потока и выражение его расхода в эквивалентных амперах 3.3. Потоки заряженных частиц, истекающих из плазмы 3.4. Параметры двух основных технологических операций, выполняемых с помощью ионного пучка 4. Откачка вакуумных систем