Микролитография

Автор(ы)

Моро У

Год

1990

Издательство

Мир

Язык

rus

ISBN

5-03-001716

Библиографическая ссылка

М.: Мир, 1990. - 605 с.

Теги

Электроника

Аннотация

Микролитография Год : 1990 Автор : Моро У. Переводчик : Р. Х. Тимеров Жанр : Микроэлектроника Издательство : Мир ISBN : 5-03-001716-Х Язык : Русский Формат : PDF Качество : Отсканированные страницы + слой распознанного текста Количество страниц : 622 Описание : Книга крупного американского специалиста по сути представляет собой энциклопедию, посвященную микролитографии, материалам для полупроводниковой технологии и вспомогательным технологическим операциям. В 1-й части рассматриваются различные виды резистов, методы их нанесения, сушки, экспонирования, травления, а также процессы рентгеновской, ионно-лучевой, электронно-лучевой и фотолитографии. Во 2-й части рассматриваются процессы обработки экспонированных резистных структур: проявление, задубливание, травление, методы и возможности безрезистной технологии, методы контроля технологических процессов. Для специалистов по технологии микроэлектроники, студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специальностей. 21/05/12 ТОРРЕНТ ПЕРЕЗАЛИТ. ПРОСЬБА ПЕРЕКАЧАТЬ. Примеры страниц Оглавление Часть 1: Глава 1 Введение. Глава 2 Позитивные фоторезисты. Глава 3 Позитивные радиационные фоторезисты. Глава 4 Негативные фоторезисты. Глава 5 Негативные радиационные резисты. Глава 6 Подготовка поверхности к нанесению резистный плёнек. Глава 7 Предэкспанинционная термообработка (сушка) резистивных плёнок. Глава 8 Фотолитография. Глава 9 Радиационное экспонирование. Часть 2: Глава 10 Проявление изображений в резисте. Глава 11 Сушка после проявления (задубливание). Глава 12 Процессы нанесения. Глава 13 Травление. Глава 14 Удаление резиста. Глава 15 Контроль технологических параметров. Глава 16 Безрезистная технология. Глава 17 Состояние и перспективы развития технологии.