Ионно-плазменная обработка материалов

Автор(ы)

Ивановский Г.Ф, Петров В. И

Год

1986

Язык

rus

Теги

физика Химия

Аннотация

Ионно-плазменная обработка материалов Год : 1986 Автор : Ивановский Г.Ф., Петров В. И. Издательство : Радио и связь ISBN : отсутствует Язык : Русский Формат : DjVu Качество : Отсканированные страницы + слой распознанного текста Количество страниц : 233 Описание : Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования для ее осуществления, возможности автоматизации процессов. Для инженерно-технических работников, занимающихся ионно-плазменной технологией. Примеры страниц Оглавление Предисловие 3 Введение 4 Глава первая. Взаимодействие энергетических ионов с материалами . 10 1.1. Внедрение энергетических ионов в материалы 10 /1.2. Нарушение структуры материалов при ивнной бомбардировке .... 20 1.3. Обратное рассеяние ионов 22 1.4. Ионное распыление 26 1.5. Ионное распыление многокомпонентных материалов 43 1.6. Вторичная ионно-ионная эмиссия 61 1.7. Эмиссия электронов с поверхности материалов при ионной бомбардировке . 55 1.8. Модели механизма ионного распыления материалов 57 1.9. Влияние среды на процесс ионного распыления 61 Глава вторая. Плазмо- и ионно-хнмическая обработка материалов 66 2.1. Характеристика процессов плазмо- и ионно-химйческого травления .... 66 2.2. Химическая связь и некоторые представления о кинетике химических реакций 68 2.3. Механизм формирования химически активной плазмы ........ 71 2.4. Механизм взаимодействия энергетических частиц плазмы с материалами в процессе плазмо- и ионно-химического травления . 81 2.5. Селективность процессов плазмо- и ионно-химического травления .... 99 2.6. Направленность процессов ПХТ и ИХТ 105 2.7. Зависимость скорости травления от параметров процессов ПХТ и ИХТ . . 107 2.8. Повреждение поверхности материалов при ПХТ и ИХТ 121 Глава третья. Формирование. пленок материалов в процессах ионно-плазмен- ного и ионно-лучевого нанесения 123 3.1. Характеристика и этапы процесса нонно-плазменного нанесения .... 123 3.2. Реактивное нонно-лучевое и ионно-плазменное нанесение материалов . . 136 3.3. Ионное осаждение материалов . . 139 3.4. Загрязнение пленок материалов, полученных ионно-плазменным и ионно-лучевым нанесением 142 Глава четвертая. Применение процессов ионно-плазменной обработки материалов 150 4.1. Ионно-плазмеиная очистка поверхностей материалов 154 4.2. Ионно-плазменное полирование и создание шероховатости поверхностей материалов ... 159 4.3. Анализ атомного состава поверхности материалов ионными пучками ... 162 4.4. Травление структур на поверхности материалов . %» 165 4.5. Маскирование при ионном, плазмо- и ионно-химическом травлении материалов 178 4.6. Ионно-плазменное нанесение материалов 188 4.7. Теплоотвод с пов